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에스앤에스텍, EUV 블랭크마스크 '日 독점' 깬다

디지털데일리 발행일 2021-07-16 09:13:08
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김도현
에스앤에스텍 자료
에스앤에스텍 자료
- 호야·울코트 등 장악한 시장…내년 양산 목표

[디지털데일리 김도현 기자] 에스앤에스텍이 극자외선(EUV) 공정 핵심 소재 국산화에 나섰다. EUV 소재는 일본 의존도가 높은 분야다.

16일 업계에 따르면 에스앤에스텍은 내년 양산을 목표로 EUV용 블랭크마스크 연구개발(R&D)을 진행 중이다.

블랭크마스크는 반도체 노광공정에 사용되는 포토마스크 원재료다. 블랭크마스크는 석영(쿼츠) 위에 금속막과 감광막을 도포해 만든다. 여기에 회로패턴을 형상화하면 포토마스크가 된다. 노광공정은 포토마스크를 올린 실리콘웨이퍼에 빛을 쏘아 회로를 새기는 과정이다. 반응시키는 빛의 파장에 따라 ▲불화크립톤(KrF) ▲불화아르곤(ArF) ▲EUV용으로 구분된다. 반도체 공정 미세화에 따라 EUV 활용이 높아지는 추세다. 블랭크마스크는 일본 호야·울코트·아사히글라스 등이 주도하고 있다.

에스앤에스텍은 작년 6월 100억원에 이어 올해 7월 110억원을 EUV용 블랭크마스크 시설 투자 등에 집행했다.

SKC도 지난 2019년 블랭크마스크 시장에 뛰어들었다. ArF용 제품을 내년부터 양산할 예정이다. 이후 EUV용 개발 작업에도 착수할 것으로 보인다.

반도체 업계 관계자는 “앞으로 삼성전자 SK하이닉스 공장에 EUV 장비가 꾸준히 들어올 것이기 때문에 EUV용 블랭크마스크 국산화는 큰 의미가 있다”라고 분석했다.

한편 에스앤에스텍은 EUV 포토마스크를 보호하는 EUV 펠리클 사업도 준비 중이다. 펠리클이 있으면 포토마스크 수명을 늘릴 수 있다. 에스앤에스텍은 고객사가 원하는 투과율에 근접한 것으로 알려졌다.
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김도현
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