[디지털데일리 한주엽기자] 일본 캐논이 나노임프린트 리소그래피(NanoImprint Lithography, NIL) 기술로 반도체 장비 시장에 재진입한다.

27일 캐논은 올해 중으로 NIL 장비를 상용화할 계획이라고 밝혔다. 아울러 최근 미국 산호세에서 개최된 반도체 리소그래피 전문 컨퍼런스인 SPIE 2015에서 NIL 장비의 개발 상황을 소개했다.

NIL은 2003년 국제반도체기술로드맵(International Technology Roadmap for Semiconductor, ITRS)에서 32나노 이하의 선폭을 실현 할 수 있는 새로운 방법론으로 소개된 기술이다. 나노패턴이 각인된 스탬프를 사용해 마치 도장을 찍듯 실리콘 웨이퍼 위에 나노패턴을 전사하는 공정 방식을 의미한다. 액체인 자외선(UV) 감광액을 실리콘 기판 위에 코팅한 후 투명한 스탬프(Template)를 접촉시키고 압력을 가하면 스탬프 사이로 패턴이 형성된다. 이후 광원을 투사해 패턴을 고체화 시킬 수 있다. 저렴한 UV를 광원으로 활용하고 렌즈를 사용하지 않는 덕에 네덜란드 ASML이 독점하고 있는 불화아르곤(ArF) 이머전, 또는 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV) 노광 장비를 사용했을 때 보다 경제적이다.

캐논은 과거 전통적 노광 장비 분야에서 일정한 점유율을 갖고 있었으나 빛 파장이 193나노미터(nm)인 ArF 세대에선 제품 개발에 실패해 사실상 시장에서 퇴출됐었다. 극자외선(EUV) 노광 기술 역시 상용화가 어려울 것이라고 판단, 연구개발(R&D)을 포기했다. 그러나 NIL 기술은 과거 5~6년간 꾸준하게 R&D를 진행해왔다. 작년 2월에는 NIL 관련 유망 벤처인 몰티큘러 임프린트(Molecular Imprints)를 인수했다. 이 회사는 세계 노광 장비 1위 업체인 ASML도 눈독을 들였던 것으로 전해지고 있다. 캐논과 몰티큘러 임프린트는 그간 도시바와 함께 NIL의 적용 방안을 놓고 협력 관계를 이어왔다. 도시바는 최근 SK하이닉스와 NIL 기술을 공동 개발하는 계약을 체결한 바 있다. 즉, 캐논의 나노임프린트 장비가 SK하이닉스로도 공급될 수 있다는 의미다.

캐논 측은 ArF 이머전 장비로 4회(쿼드)의 패터닝을 진행하는 경우라면 전체적인 제조 비용은 NIL이 더 낮다고 강조하고 있다. 다만 NIL은 EUV와 비교해 패턴 형성의 자유도가 떨어지기 때문에 일정한 패턴을 유지하는 낸드플래시 메모리 생산에 우선 적용될 것이라고 전문가들은 예상하고 있다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr