반도체

도시바, SK하이닉스 상대 1조원대 민사소송 취하… 양사 협력 강화

디지털데일리 발행일 2014-12-19 18:17:45
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한주엽

[디지털데일리 한주엽기자] 일본 도시바가 SK하이닉스를 상대로 제기한 손해배상 소송을 취하하기로 했다. 

19일 SK하이닉스는 도시바에 2억7800만달러(3050억원)를 지급키로 하고 소송 취하에 합의했다고 밝혔다. 도시바는 지난 3월 SK하이닉스에 1조1112억원 규모의 손해 배상과 판매 금지 등을 요구하는 민사 소송을 낸 바 있다. 제휴업체 샌디스크 직원이 2008년 당시 일본 요카이치 낸드플래시 공장의 기밀 정보를 무단으로 반출, 이를 SK하이닉스에 넘겼다는 것이 도시바의 주장이었다.

SK하이닉스 측은 “잠재적인 경영의 불확실성을 해소하기 위해 이 같이 합의했다"고 설명했다. 아울러 기존 반도체 특허 상호 라이선스 및 제품 공급 계약도 연장해 특허 분쟁으로 인한 사업 불확실성을 완화했고 안정적인 판매 기반을 유지할 수 있게 됐다고 덧붙였다.

양사는 이날 차세대 노광 기술로 꼽히는 나노임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL) 기술을 공동 개발한다고 발표했다. 분쟁은 없애고 협력은 강화한다는 의미다. NIL은 초미세 패턴을 구현하는데 적합한 차세대 노광 공정 기술로 평가받고 있다. 이 기술은 막대한 투자가 병행되는 기존 공정 기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점도 갖고 있다. 그간 반도체 업계는 공정 미세화의 한계를 극복하기 위해 극자외선(Extreme Ultraviolet, EUV) 활용 등 다양한 노력을 해오고 있었으며, NIL 기술도 한계 극복을 위한 방안 중 하나로 개발돼 왔다.

<한주엽 기자>powerusr@ddaily.co.kr

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