- 삼성전자 SK하이닉스 이어 2024년 마이크론 EUV 대열 합류
- 2025년 실적 비중 EUV 70%…High-NA 공급 개시

[디지털데일리 김도현 기자] 네덜란드 ASML이 글로벌 반도체 장비업계 1위 자리를 노린다. 차세대 노광기술 극자외선(EUV) 설비가 핵심으로 꼽힌다.

29일(현지시각) ASML은 ‘인베스터 데이’를 열고 회사 전략과 사업 전망 등을 공유했다.

이날 피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 “반도체 산업은 과소평가 받고 있다. (고객사 증설 전략에 따라) 우리는 생산능력을 확대할 필요가 있다”고 말했다. 시장 확대에 대한 자신감을 나타낸 발언이다.

ASML은 ▲노광 ▲계측 ▲검사 등 주요 장비를 통해 오는 2030년까지 연평균 11% 매출 성장을 이뤄낼 것으로 내다봤다. 이번 행사에서 2025년 매출 전망치를 240억유로(약 33조200억원)에서 300억유로(약 41조2800억원)로 상향 조정했다. 약 25% 높아진 수준이다.

이는 EUV 수요 확대에 따른 기대감이 반영된 결과다. EUV는 기존 불화아르곤(ArF) 대비 13분의 1 짧은 파장으로 미세공정에 적합한 노광기술이다. 높은 성능만큼 구현하기가 까다롭다. 설비 1대당 2000억원 내외에 달한다. 그럼에도 반도체 성능 향상을 위해 삼성전자 TSMC 등은 제품을 못 구해서 안달이다.

현재 EUV 장비를 생산할 수 있는 곳은 ASML이 유일하다. 당초 반도체 수탁생산(파운드리) 공장에서만 쓰이다가 메모리 생산라인에도 투입되기 시작했다. 업계에서는 소품종 대량생산 체제인 메모리에 활용되면 EUV 수요가 급등할 것으로 보고 있다.

메모리 1~2위 삼성전자와 SK하이닉스가 도입했고 마이크론 난야테크놀로지 등도 2024년 전후로 적용을 본격화한다. 현재 5개 미만 레이어에 EUV 장비가 사용되는데 메모리 업체들은 활용도를 점차 늘려갈 방침이다.

고객사 확대로 ASML은 지난 2분기 처음으로 EUV(45%)가 ArF(34%) 매출을 넘어섰다. 이번 행사에서 ASML은 2025년에는 EUV 비중이 70%까지 늘어날 것으로 예상했다. ASML은 지난해 EUV 장비 31대를 고객사에 공급했다. 올해 상반기는 16대 납품했다. 지속 투자를 통해 생산능력을 꾸준히 증대할 방침이다.

ASML은 EUV 효과로 급성장하면서 실적이 큰 폭으로 개선되고 있다. 반도체 장비시장 4~5위권에서 1위(미국 어플라이드머티어리얼즈) 자리를 넘볼 정도로 몸집이 커졌다.

ASML이 2025년을 주목한 이유는 또 있다. 이 시점에 맞춰 ASML은 현재보다 진보된 EUV 기술 ‘하이(High)-뉴메리컬 어퍼처(NA)’를 선보인다. 렌즈 및 반사경 크기를 확대해 해상력을 0.33에서 0.55로 높였다. 해상력은 렌즈나 감광 재료가 얼마나 섬세한 묘사가 가능한지를 나타내는 수치다. High-NA 장비는 3000억원에 이를 것으로 추정된다. 파운드리 진출을 공식화한 인텔이 선제 도입을 예고한 가운데 수요기업 간 구매 경쟁이 심화할 전망이다.

베닝크 CEO는 “향후 10년간 ASML은 강력한 성장 기회를 실현하게 될 것”이라면서 “EUV 전환이 빨라지면서 사업이 커질 것으로 기대된다. ASML과 공급망 파트너는 미래 대비 차원에서 생산량을 계속 늘리고 있다”고 이야기했다.