[디지털데일리 한주엽기자] 네덜란드 ASML이 노광 장비에 탑재되는 광원 기술을 보유한 미국 사이머를 19억5000만유로(우리돈 약 2조8000억원)에 인수키로 했다고 EE타임스 등 외신들이 17일(현지시각) 보도했다.
ASML은 이번 인수를 통해 극자외선(EUV) 노광 장비 고도화에 속도가 붙을 것이라고 밝혔다. 노광(露光)은 실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 형성하는 과정으로 가장 핵심적인 반도체 제조 공정이다. EUV 노광 장비는 현재 상용화 되어 있는 이머전 장비보다 파장이 짧아 10나노대 반도체 생산에 쓰일 것으로 기대되고 있다. 다만 현재 테스트용으로 나와 있는 EUV 장비는 광원 에너지 부족으로 시간당 웨이퍼 처리량이 떨어지는 탓에 양산 라인에는 적용되지 못하고 있다.
앞서 ASML은 인텔과 삼성전자, TSMC로부터 EUV 노광장비 개발을 위해 2조원대의 연구개발(R&D) 자금을 지원받은 바 있다.
ASML은 2014년 시간당 69장의 웨이퍼를 처리할 수 있는 EUV 장비 개발을 목표로 잡고 있다. 그러나 인텔과 삼성전자 같은 반도체 소자 업체들은 시간당 100~150장의 웨이퍼를 처리할 수 있어야 생산성이 떨어지지 않는다고 주장한다.
업계 관계자는 “ASML의 이번 사이머 인수는 EUV 장비의 처리 속도를 높이기 위해 광원 기술 자체를 내재화한 것”이라고 말했다.