[디지털데일리 배태용 기자] 주성엔지니어링(대표 황철주)은 DTC(Deep TrenchCapacitor) 실리콘 캐패시터 ALD 장비를 엘스페스(구 앨로힘)에 출하 한다고 17일 밝혔다.

엘스페스는 글로벌 실리콘 캐패시터를 선도하는 팹리스 기업이다. 현재 반도체 업계는 고성능 반도체를 구현하기 위해 공정 미세화를 통해 한정된 면적 안에 수백 억개의 트랜지스터를 집적하고 있다. 그러나 AI 반도체 수요가 증가함과 동시에 반도체 집적도가 높아지면서 발열, 누설 전류, 노이즈 등 새로운 문제들이 발생하고 있다.

이를 해결하기 위해 차세대 반도체 부품으로 실리콘 캐패시터가 부상하고 있다. 실리콘 캐패시터는 기존 MLCC와 달리 High-k 화합물로 만들어진 캐패시터이다.

AI(인공지능) 시장의 성장에 따라 다량의 데이터 연산과 처리가 가능한 고성능 저전력 AI반도체의 중요성이 확대되는 변화 속에서 DTC 실리콘 캐패시터는 기존 MLCC 대비 고온∙고주파 환경에서도 안정적으로 노이즈 없이 전압과 전류를 공급할 수 있다. 또한, 대역폭이 커질수록 MLCC는 더 많은 개수를 필요로 하지만, 실리콘 캐패시터의 경우 단 1개로 대체할 수 있어 초소형 폼팩터 제품에 적용 가능한 것이 특징이다.

해당 실리콘 캐패시터의 성능 향상을 위해서는 고유전율 레이어를 높은 종횡비 구조물에 얇게 겹겹이 증착하는 것이 중요하다. 이에 따라 주성은 세계 최초의 ALD 기술을 신규 어플리케이션인 DTC 실리콘 캐패시터에 접했으며, 주성은 이를 기점으로 지속적인 혁신 기술 개발을 통해 차세대 DTC 초기 시장을 선점해 글로벌 고객사를 확보해 나아갈 방침이다.

주성 관계자는 "DTC 실리콘 캐패시터 ALD 장비를 출하하게 된 것은 그동안의 축적된 주성의 혁신과 고객의 신뢰로 이루어진 결과"라며 "앞으로도 차세대 반도체 초기 시장을 선점해 지속성장의 기반을 다질 것"이라고 말했다.