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반도체 노광 장비 전문업체인 네덜란드 ASML은 미국의 주요 반도체 제조사 중 한 곳과 최소 15대의 극자외선(Extreme Ultra Violet, EUV) 노광노광(露光, Photo Lithography) 장비 공급 계약을 체결했다고 23일 밝혔다.

해당 고객사는 새로 도입하는 EUV 장비를 미래 공정 기술을 위한 멀티플 프로세싱 단계에 사용할 것으로 알려졌다. 전체 수량 중 먼저 2대의 EUV 노광 시스템(모델명 NXE:3350B)이 올 연말 이전에 고객사 생산라인에 도입돼 기존에 설치된 EUV 시스템과 함께 반도체 제조 공정에 사용될 예정이다.  업계 전문가들은 기술력, 재무력 등을 감안하면 해당 장비를 주문한 미국 업체는 인텔일 것으로 추정하고 있다.

노광은 설계 레이아웃이 세밀하게 새겨진 마스크(Mask) 혹은 레티클(Reticle) 유리 원판 위로 광원을 쏴 감광액(Photoresist)이 도포된 웨이퍼 위에 회로 패턴을 형성하는 공정이다. 필름 사진을 현상하는 과정과 흡사하다. 반도체 생산 공정 가운데 핵심으로 꼽힌다. 노광 장비의 성능은 광원 파장으로 결정된다. 파장이 짧으면 빛의 회절(回折) 현상을 줄여 보다 미세한 회로 패턴을 웨이퍼 위에 형성할 수 있다. EUV 장비는 빛 파장이 13.5nm로 짧아 회로 선폭이 10나노 미만인 차세대 반도체 생산에 적합하다. 그간 소스 에너지 부족으로 양산화 라인에 도입하는 것이 어려웠지만 최근 ASML은 이러한 문제를 크게 개선했다.

피터 베닝크 ASML 최고경영자(CEO)는 “이제 EUV 노광 시스템은 양산 과정 도입 단계에 들어섰다”며 “EUV의 장기적 계획과 생태계에 대한 준비도 순조롭게 진행되고 있다”고 말했다.

<한주엽 기자>powerusr@insighstsemicon.com