[디지털데일리 한주엽기자] 기업과 정부가 자금을 대고 대학과 연구소가 반도체 원천기술 연구개발(R&D)을 진행하는 국책사업이 진행된다.
산업통상자원부는 18일 서울 양재동 엘타워에서 삼성전자, SK하이닉스, ASML코리아 등 6개 기업과 ‘미래 반도체 소자개발 투자협력’을 위한 양해각서(MOU)를 체결했다.
이번 MOU로 산업부와 6개 기업은 2018년까지 미래 반도체 소자 관련 원천기술 개발에 250억원을 투자하게 된다. 매년 산업부가 25억원, 삼성전자가 12억5000만원, SK하이닉스가 8억5000만원, ASML코리아, 어플라이드머티어리얼즈코리아, TEL코리아, 램리서치코리아가 각각 1억원을 투자한다.
이번 사업은 미국 반도체연구협회(SRC Semiconductor Research Corporation)의 모델을 본딴 것이다. 미국 반도체 업계는 매년 SRC에 1000억원 규모의 R&D 자금을 공동으로 출자, 원천 기술 개발 및 인력 생태계를 형성하고 있다.
산업부는 그 동안 정부로부터 자금을 지원받았던 삼성전자, SK하이닉스 등 세계적 대기업이 R&D 생태계의 후원자로 변화하는 것이어서 큰 의미가 있다고 설명했다.
지금까지는 정부가 대학, 연구소, 기업에 R&D 자금을 지원했지만, 이제는 정부와 기업이 대학, 연구소에 자금을 지원하는 형태로 변하는 것이다. 산업부는 기업이 자금을 대는 만큼 일부 평가와 관리 권한을 부여키로 했다고 밝혔다.
김재홍 산업부 제1차관은 “사람과 원천기술의 중요성에 주목한 이번 프로젝트를 통해 우리나라가 진정한 반도체 최강국으로 재도약하길 기대한다”고 말했다.
이번 사업은 지난 2월 14일 공고돼 이달 초까지 총 29개의 과제 제안서가 접수됐다. 이달 말 사업자 선정 평가를 거쳐 오는 6월부터 본격적으로 추진될 계획이다.
산업부는 연구주제 발굴과 기획, 평가 등 사업 운영 과정에서 투자기업의 의견을 적극적으로 반영한다는 계획이다. 또 내년에는 참여기업을 늘려 투자 규모를 확대하고 미래부와 협력 방안도 마련할 방침이다.