- 라피더스, 2027년 2나노 상용화…日 정부 700억엔 투자
- 도요타·덴소·소니·키옥시아·NTT 등 공동 투자

[디지털데일리 윤상호 기자] 일본이 반도체 생태계 재건 속도를 내고 있다. 2나노미터(nm) 이하 공정 반도체 생산시설(팹)을 구축한다. 일본 정부와 기업이 힘을 모았다. 일본 정부는 7000억원을 지원한다. 도요타 소니 키옥시아 등 8개 기업이 뭉쳤다.

13일 일본 NHK 등에 따르면 ▲도요타 ▲덴소 ▲미쓰비시UFJ은행 ▲소니 ▲소프트뱅크 ▲키옥시아 ▲NEC ▲NTT 일본 기업 8곳이 합작사 ‘라피더스(Rapidus)’를 설립한다. 라피더스는 라틴어로 ‘빠르다’라는 뜻이다. 일본 정부는 라피더스에 700억엔(약 6700억원)을 지원키로 했다.

라피더스는 2nm 이하 공정 반도체 제조사다. 2027년 양산 목표다. 현재 반도체 미세공정은 3nm급까지 상용화 한 상태. 그동안 반도체 미세공정은 반도체 수탁생산(파운드리) 1위와 2위인 TSMC와 삼성전자가 이끌었다. 삼성전자는 올해 세계 최초로 3nm 공정 반도체 양산에 성공했다. 양사는 2025년 2nm 공정 도입이 목표다.

일본은 반도체 장비와 소재 강자다. 차량용 반도체 등 산업용 시스템반도체 분야 선두권 종합반도체회사(IDM)를 다수 보유하고 있다. 1980년대까지 메모리반도체도 주도했다. 하지만 미국의 견제와 메모리 가격 경쟁 심화 등으로 미세공정과 메모리 경쟁력을 상실했다. 일본 메모리 업체는 키옥시아만 남았다.

일본 정부는 2020년대 들어 반도체 생태계 재건 움직임을 본격화했다. 반도체 업계 지원 법안을 제정했다.

TSMC는 일본 구마모토에 파운드리 팹 투자를 시작했다. 소니 덴소와 JSAM을 설립했다. 일본 정부 지원금 4000억엔(약 3조8000억원) 포함 9800억엔(약 9조3100억원)을 투입했다. 2024년 가동한다. 370억엔(약 3500억원)이 들어간 3차원(3D) 패키징 연구개발(R&D)센터는 지난 6월 클린룸을 완공했다.

키옥시아는 미국 웨스턴디지털과 미에현에 낸드플래시 메모리 공장을 짓고 있다. 2788억엔(약 2조6500억원)을 집행한다. 일본 정부가 929억엔(약 8800억원)을 보태기로 했다. 마국 마이크론테크놀로지는 히로시마현에 D램 공장을 검토 중이다. 최대 8000억엔(약 7조6000억원)이 들어간다.

미국 정부와는 2nm 공정 개발을 같이하고 있다. 올해 3500억엔(약 3조3300억원) 예산을 배정했다. 이달부터 R&D를 개시했다. 2025년까지 2nm 공정 개발에 나선다. 라피더스 출범 배경이다. 여기서 검증한 공정으로 만든 일본 장비와 소재로 라피더스가 2nm 공정을 추진하는 셈이다.

라피더스는 참가 기업 면면을 고려하면 ▲차량용 반도체 ▲아날로그 반도체 ▲통신용 반도체 등을 생산할 전망이다. 현재 10nm 초과 공정을 사용하고 있는 분야다. 반도체는 미세공정을 활용할수록 ▲크기 축소 ▲에너지 절감 ▲성능 개선 등에 유리하다. ▲자율주행 ▲인공지능(AI) ▲사물인터넷(IoT) ▲차세대 통신 등 일본이 경쟁력을 유지하기 위해 필요한 기술과 이를 구현하기 위한 반도체를 동시에 확보하려는 시도다.

파운드리 진출 가능성도 있다. 2nm 이하 공정을 추진하는 파운드리는 현재 3곳이다. TSMC 삼성전자 인텔이다. 이중 순수 파운드리는 TSMC뿐이다.

다카이치 사나에 일본 경제안보상은 “차세대 반도체는 경제안보 관점에서도 중요하다”라며 “향후 디지털 수요 증가 등 모든 분야에서 혁신의 바탕이 될 것”이라고 말했다.