[디지털데일리 김도현기자] 동진쎄미켐이 포토레지스트 생산능력(CAPA, 캐파)을 확대한다. 일본의존도를 낮추는 데 의미가 있다.

15일 산업통상자원부(장관 성윤모)는 이날 오후 정승일 산업부 차관이 동진쎄미켐의 화성사업장을 방문한다고 밝혔다. 포토레지스트 양산 업체 동진쎄미켐 격려 및 현장 목소리 청취 차원이다.

포토레지스트는 노광 공정에서 활용되는 감광액이다. 이를 바르고 빛을 쏘면, 웨이퍼 위에 회로 모양이 남겨진다. 불화크립톤(KrF·248nm), 불화아르곤(ArF·193nm), 극자외선(EUV·13.5nm)용으로 나뉜다. 파장 길이가 짧을수록 회로 간격을 좁힐 수 있다. 붓이 얇아질수록 섬세한 그림을 그릴 수 있는 것과 같은 원리다.

그동안 포토레지스트는 일본 JSR, 신에츠화학, 도쿄오카공업(TOK) 등으로부터 대부분을 수급했다. 지난해 일본 수출규제 이슈가 발생하면서 상황이 달라졌다. 국내 업체들은 벨기에 RMQC, 미국 듀폰, 독일 머크 등 일본 외 국가로 수입국을 다변화하기 시작했다. 한국무역협회에 따르면 지난해 7~11월 포토레지스트 수입액 전년동기대비 증가율은 벨기에 1031.4%, 미국 15.8%, 독일 66.7%이다.

한국에서는 동진쎄미켐이 EUV용 아래 단계인 ArF용 포토레지스트를 지난 2010년 개발에 성공했다. 동진쎄미켐은 올해 1분기 내 포토레지스트 공장을 증설할 계획이다. 내년 초 가동이 목표다. 신공장이 정상가동되면 동진쎄미켐의 포토레지스트 캐파는 2배 이상 확대된다.

정 차관은 “지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력한 결과, 포토레지스트 등 소재 3개 품목의 공급 안정성이 확보되는 중”이라며 “향후 지원을 아끼지 않고, 올해를 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼겠다”고 강조했다.

한편 지난 9일 듀폰은 국내에 EUV용 포토레지스트 생산시설을 마련하기로 결정했다. 대한무역투자진흥공사(KOTRA)에 2800만달러(약 325억원) 규모의 투자신고서를 제출한 상태다. 이번 협상으로 듀폰은 오는 2021년까지 투자를 완료한다. 충남 천안에 EUV용 포토레지스트 및 화학기계연마(CMP) 패드 개발·생산 시설을 구축한다. 산업부는 관련 제품의 원재료를 국내에서 조달하는 내용의 협상도 진행 중인 것으로 알려졌다.

<김도현 기자>dobest@ddaily.co.kr